米、中国向けDUV露光装置の販売禁止を日蘭に求める＝報道

米当局者はオランダ政府に対し、半導体製造装置大手ASMLの深紫外線（DUV）露光装置を中国に販売しないよう働き掛けている。ブルームバーグ6日付が報じた。

ブルームバーグは情報筋の話として、DUV技術の中でも先端プロセスに対応可能なArF液浸露光装置（ArFi）の販売を禁止させる狙いだと伝えた。

米国の働きかけが成功すれば、ハイテク分野で世界をリードしようとする中国の野望を挫くことになる。