台湾高等検察署知的財産検察分署は、TSMCの14ナノメートル以下の半導体製造技術が不正に持ち出された事件で、元エンジニアの陳力銘被告ら3人と、東京エレクトロンの現地法人を、国家安全法違反などの罪で追起訴したと発表した。

検察は、陳力銘被告に懲役7年、勾留中の陳被告に懲役8年8か月、証拠隠滅に関与したとされる盧被告に懲役1年をそれぞれ求刑した。

また東京エレクトロンの現地法人については、捜査に協力し、求めに応じて証拠を提出するなど事件解明に一定の貢献があったとして、罰金2500万台湾ドル（1億2400万円）を科すよう求めた。

高検によると、陳力銘被告は証拠を示された後、犯行を認め、共犯とされる陳被告の関与も供述した。一方、もう1人の陳被告は犯行を十分に認めておらず、反省の態度が見られないとして、より重い刑を求めたという。

盧被告は、陳力銘被告の不正行為が発覚した後、自己保身のため関連データを削除するなど証拠隠滅を図ったとされている。

検察はあわせて、東京エレクトロンのクラウド上に、TSMCの国家の中枢に関わる重要技術である「14ナノメートル以下プロセスのIC製造技術」などの営業秘密データが残されていたことを確認したとしている。

検察は昨年12月、元従業員に対する管理・監督を怠ったとして同社の子会社を起訴し、罰金1億2千万台湾ドル（約6億円）を求刑している。