米国が中国共産党（中共）による先端技術の窃取に対し、法的な反撃に乗り出した。下院外交委員会は22日、半導体製造装置の中国への流出を防ぐ複数の輸出管理法案を正式可決した。

可決された法案は以下の3本だ。

「ハードウェア技術管理多国間調整法（HARDWARE TECHNOLOGY CONTROL MULTILATERAL COORDINATION ACT）」は、中共などの権威主義国家への半導体製造装置および重要な中小企業向け機器の販売を禁止する。

「チップ窃取阻止法（Stop Stealing Our Chips Act）」は、商務省産業安全保障局（BIS）に輸出管理違反を通報するための内部告発者報奨制度を創設する。

「米国AIモデル窃取抑止法（Deterring American AI Model Theft Act）」は、AIモデルを窃取した行為に対する制裁を授権する。

同日、米上院司法委員会は「隠密窃取：中国による米国イノベーションへの継続的窃取」と題した公聴会を開催。議員らと出席専門家は、中共による技術窃取は「寄生」に等しいと警告し、その被害額は年間4千億〜6千億ドル、米納税者1人当たり約5千ドルの損失に相当すると試算した。

ジョージタウン大学安全・新興技術センター（CSET）のヘレン・トナー代理所長は「最先進の露光装置やソフトウェア設計、半導体サプライチェーンのその他の工程を中国に輸出しないようにすることで、中国国内における独自サプライチェーンの構築を阻止できると考える」と述べた。

ホワイトハウス科学技術政策局（OSTP）も同日、備忘録を公表。中共が脱獄技術を用いて監視を回避しコアデータを取得したうえで、モデル蒸留（Distillation）技術を駆使して米国の独自AIモデルのデータを組織的に抽出し、類似機能を持つAIモデルを「複製」していると直接指摘した。

今回の立法措置は、中共の技術拡張に対する精密な打撃と位置づけられており、法案の正式施行後は世界の技術産業サプライチェーンおよび米中関係に広範な影響を及ぼすと見られる。